在半導(dǎo)體制造和微機電系統(tǒng)（MEMS）領(lǐng)域，精確的表面形貌測量是確保產(chǎn)品質(zhì)量的關(guān)鍵。Sensofar S-neox 3D光學(xué)輪廓儀憑借其多模式測量技術(shù)和卓yue性能，為晶圓膠測量與MEMS三維形貌檢測提供了高效解決方案。

晶圓膠作為半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵材料，其厚度與均勻性直接影響芯片封裝的可靠性和性能。傳統(tǒng)的測量方法往往難以兼顧高精度與高效率，而Sensofar S-neox結(jié)合SensoPRO專用插件，實現(xiàn)了晶圓膠高度、寬度等參數(shù)的全自動表征。

通過5倍鏡頭與多焦面疊加技術(shù)，設(shè)備能夠清晰捕捉膠水的三維輪廓，有效識別因沉積不均導(dǎo)致的翹曲或分層問題。測量數(shù)據(jù)表明，該系統(tǒng)可精確輸出膠層的最大寬度、最小寬度及平均高度等關(guān)鍵參數(shù)，為工藝優(yōu)化提供可靠依據(jù)。

MEMS技術(shù)實現(xiàn)了機械、光學(xué)與電子功能的異構(gòu)集成，但其微納級結(jié)構(gòu)的質(zhì)量控制面臨嚴(yán)峻挑戰(zhàn)。S-neox光學(xué)輪廓儀基于白光干涉技術(shù)，可對MEMS器件的臺階高度、線條寬度和表面粗糙度進(jìn)行亞納米級精度的測量。

使用20倍和50倍鏡頭，設(shè)備能夠清晰呈現(xiàn)MEMS結(jié)構(gòu)的三維形貌，即使是深槽結(jié)構(gòu)或高陡峭側(cè)壁也能準(zhǔn)確成像。這為工藝開發(fā)人員提供了直觀的形貌數(shù)據(jù)，助力快速定位制造缺陷。

Sensofar S-neox集成了白光干涉、共聚焦、多焦面疊加等多種測量模式，用戶可根據(jù)樣品特性一鍵切換。其縱向分辨率達(dá)0.01nm，兼具大景深和高分辨率的特點，能夠適應(yīng)從光滑光學(xué)表面到粗糙金屬材質(zhì)的各類樣品。

此外，設(shè)備的自動拼接功能支持大面積測量，結(jié)合SensoPRO專用分析插件，大幅提升了檢測效率，為半導(dǎo)體和MEMS制造行業(yè)提供了從研發(fā)到質(zhì)控的全流程解決方案。